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真空电镀的原理是什么

真空电镀的原理是什么在高真空度的条件下,高纯度的镀层金属(如铝)在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面,形成镀层。

氩气为保护性气体,防止氧化反应影响镀层质量。 真空电镀原理:
一般而言,镀膜真空镀膜机内以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度进行 (1 Torr = 1 公厘水银柱高的压力,大气压为 760 Torr)。其镀膜膜厚约为 0.1 ~ 0.2 微米。颜
如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化的状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr<!--[if !supportFoot<!--[endif]-->l<!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]-->v#W?n8D<!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]-->G.e
关于镀膜的形成,首先利用强大电流将镀膜源 (钨丝) 加热,然后把挂在钨丝上的铝片或铝线熔解。铝材从而蒸发、飞散到各方面并附着于被镀件上。熔解的铝为铝原子,以不定形或液体状态存在并附着于被镀件上,经冷却结晶后从而变为铝薄膜



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